英特爾首批ASML高數(shù)值孔徑光刻機(jī)投產(chǎn) 顯著提升生產(chǎn)效率與可靠性
2025-02-25 11:22:24 |
探索者 |
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2月25日，英特爾公司宣布，其位于加利福尼亞州的工廠已開始使用來自ASML公司的首批兩臺(tái)先進(jìn)高數(shù)值孔徑（NA）光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。英特爾高級(jí)首席工程師史蒂夫·卡森（Steve Carson）透露，英特爾已利用ASML的高NA光刻機(jī)在一個(gè)季度內(nèi)成功生產(chǎn)了30,000片晶圓。這些晶圓是用于制造計(jì)算機(jī)芯片的大型硅片，每片晶圓可產(chǎn)出數(shù)千顆芯片。
ASML的高NA光刻機(jī)首次投入生產(chǎn)，英特爾成為全球首家接收這些新型設(shè)備的芯片制造商。早期數(shù)據(jù)顯示，這些新型光刻機(jī)的可靠性約為舊款機(jī)型的兩倍，為英特爾在半導(dǎo)體制造的競(jìng)爭(zhēng)中提供了更強(qiáng)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
與舊款的極紫外（EUV）光刻機(jī)相比，ASML的新型高NA光刻機(jī)在芯片制造中展現(xiàn)出了更高的效率。卡森指出，這些新設(shè)備能夠在更少的曝光次數(shù)下完成與舊款機(jī)器相同的任務(wù)，節(jié)省了寶貴的時(shí)間和成本。具體而言，使用高NA光刻機(jī)，僅需一次曝光和“個(gè)位數(shù)”的處理步驟，就能完成舊款機(jī)器需要三次曝光和約40個(gè)處理步驟才能完成的工作。
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